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会社概要

 会社概要 Company Profile

ご挨拶

イオン注入技術は、シリコンにリン・ヒ素を微量にイオン注入して機能化したことにより、半導体として大成功を収めました。弊社は半導体分野以外の産業分野の材料の表面に、大量に各種イオン注入することにより、材料の高機能化、低廉化に成功しました。

ご挨拶
イオン注入技術は、シリコンにリン・ヒ素を微量にイオン注入して機能化したことにより、半導体として大成功を収めました。弊社は半導体分野以外の産業分野の材料の表面に、大量に各種イオン注入することにより、材料の高機能化、低廉化に成功しました。

 この技術は、高真空プラズマ中に基材を置いてイオンを材料の表面に直接注入して、材料を高機能化する材料イノベーション技術です。省資源、省エネルギー、エコエネルギー、ものづくりビジネスの基盤技術として、一般に認知され市民権を得て来ました。

 環境革新を目指すお客様のニーズに合った商品開発を支援すべく、イオン注入加工サービスを行ってきましたが、自らも環境にやさしいエネルギー部品を開発し、技術の先進性を実証し、これを起爆剤として加工サービスを強化するとともに商品販売もすることにしました。

 イオン注入技術を用いた主力機能材料であるDLC(ダイヤモンドライクカーボン)を更に機能化し、インテリジェントDLC(i-DLC)として進化させ品ぞろいさせました。この技術を用いて基材の表面を加工し、材料の低廉化、機能化、長寿命化にお役に立ちたいと念願しています。

 弊社は、産官学を経験した技術、経営、営業に長じた熟練プロ集団と、将来を担う若手から構成され、お客様のニーズに合った商品開発を行い、量産化目処、この技術を基に中小企業の新生化を支援します。そのためには、企業に入り込み製品化・事業化支援を積極的に行い、社会に貢献していくことを目的としております。
代表取締役社長 鈴木泰雄
代表取締役社長 鈴木泰雄

会社概要

京都リサーチパークにて資本金1,000万円で設立

会社概要
社    名
株式会社 プラズマイオンアシスト Plasma Ion Assist Co.,Ltd.
略    称
PIA
設    立
2002年8月13日
所  在  地
〒601-8142
京都市南区上鳥羽中河原34-1
TEL: 075-693-8125   FAX: 075-693-8130
URL: www.plasma-ion.co.jp
資  本  金
100,000,000円
取  締  役
代表取締役  鈴木泰雄
取締役    鈴木洋和
取締役    奥田裕
主な取引銀行
京都信用金庫
滋賀銀行
東京三菱UFJ銀行
京都中央信用金庫
京都銀行
池田泉州銀行
主 な 業 務
■プラズマ・量子ビーム技術を利用したコーティング事業全般
■プラズマ・量子ビーム技術及び装置の研究開発、設計、製造及び販売
■プラズマ・量子ビーム技術製品及び加工、関連装置の代理店販売
■プラズマ・量子ビーム技術を活用した金型、成型製品及び関連製品の製造販売
■プラズマ・量子ビーム技術に関連するコンサルティング事業
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会社経歴
平成14年8月
京都リサーチパークにて設立
平成16年10月
本社、工場を吉祥院石原堂ノ後町へ移転
平成17年6月
”京都産業21プロジェクト”の推進企業に採択される。
テーマ:精密凹凸部品金型のDLC成膜による表面改質加工技術の開発
平成18年6月
近畿経済産業局産学公連携研究開発資金支援事業に採択される。
テーマ:車部品の燃費向上の為の厚膜DLC高速成膜装置技術の開発
平成18年11月
本社、工場を現住所(上鳥羽中河原)へ移転。
平成19年3月
京都市ベンチャー企業目利き委員会より“Aランク企業”として認定される。
平成20年10月
<池銀>ニュービジネス助成金”地域おこし”大賞受賞
平成22年7月
NEDO”新エネルギーベンチャー技術革新事業”に採択される。(Aフェーズ)
テーマ:高速成膜による高導電性DLCセパレーターの技術開発
平成22年10月
京都府中小企業経営革新計画の承認を受ける。
平成23年5月
NEDO”新エネルギーベンチャー技術革新事業”に継続案件として認定を受ける。(Bフェーズ)
平成24年7月
NEDO”新エネルギーベンチャー技術革新事業”に継続案件として認定を受ける。(Cフェーズ)
平成26年9月
京都府中小企業団体中央会補助金(ものづくり中小企業・小規模事業者ものづくり・商業・サービス革新事業)に採択される。
テーマ:高機能放熱部材のセラミック粉体技術と製造装置の開発
平成28年7月
中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)に採択される。
テーマ:大電流急速充放電を可能にした蓄電デバイス用導電性DLC長尺アルミ箔電極の開発
会社組織表
組織図